Uma banca de DEFESA de MESTRADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: IAGO LEMOS DIAS
DATA: 19/02/2024
HORA: 09:00
LOCAL: Sala 201 da didática VII
TÍTULO: INVESTIGAÇÃO ESTRUTURAL DE FILMES FINOS DE Ti1-xAlxN DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING REATIVO.
PALAVRAS-CHAVES: filmes finos; magnetron sputtering; Ti1-xAlxN; estrutura; solução sólida; XPS.
PÁGINAS: 56
GRANDE ÁREA: Engenharias
ÁREA: Engenharia de Materiais e Metalúrgica
RESUMO:

Filmes finos de Ti1-xAlxN com diferentes teores de Al (20, 40 e 60 at.%) foram depositados por magnetron sputtering reativo com o objetivo de estudar a estrutura na qual os filmes se apresentam, avaliando se há formação de uma solução sólida Ti1-xAlxN ou se existe somente a presença de dois nitretos binários TiN + AlN. Os ensaios de MEV-FEG, nanodureza e oxidação em altas temperaturas foram inconclusivos para determinar a estrutura dos filmes finos entretanto, as análises de GAXRD das amostras indicaram uma redução no parâmetro rede e um aumento no tamanho dos cristalitos, fornecendo maiores evidências da formação do nitreto ternário Ti1-xAlxN em todos os revestimentos a partir da substituição do Ti por Al na estrutura do TiN. Os resultados de XPS constataram a presença da ligação química Ti-Al-N a partir da análise das regiões do Ti 2p, Al 2p e N 1s, confirmando a formação da solução sólida Ti1-xAlxN em todas as amostras depositadas.

MEMBROS DA BANCA:
Presidente - 1819778 - EDUARDO KIRINUS TENTARDINI
Externo ao Programa - 2027874 - MARCELO ANDRADE MACEDO
Interno - 2653918 - WILTON WALTER BATISTA