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Banca de DEFESA: FLAVIO GUSTAVO RIBEIRO FREITAS

Uma banca de DEFESA de DOUTORADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: FLAVIO GUSTAVO RIBEIRO FREITAS
DATA: 23/02/2016
HORA: 14:00
LOCAL: Mini Auditório
TÍTULO: INFLUÊNCIA DO TEOR DE SILÍCIO EM FILMES FINOS DE NITRETO DE ZIRCÔNIO DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING REATIVO
PALAVRAS-CHAVES: Filmes Finos, Magnetron Sputtering, Nitreto de Zircônio, Nitreto de Silício, Zr-Si-N, Resistência a Oxidação, Mudanças Estruturais.
PÁGINAS: 136
GRANDE ÁREA: Engenharias
ÁREA: Engenharia de Materiais e Metalúrgica
RESUMO:

Filmes finos de Zr-Si-N foram depositados por magnetron sputerring reativo para estudar a influência do teor de silício na estrutura, morfologia e propriedades como dureza e resistência a oxidação. Para tal, foram selecionados seis filmes com teor de Si entre 2,8 e 14,9 at.%. A morfologia demonstra que a estrutura colunar característica dos filmes depositados por sputtering não existe. A estrutura é composta por áreas cristalinas e outras amorfas, na qual os grãos cristalinos estão envolvidos pela fase amorfa, sendo que EDS detectou que estas fases são ricas em Zr e Si, respectivamente. Há redução de intensidade e alargamento dos picos de difração, efeito provocado pela segregação do Si3N4 para região dos contornos, fato que propicia a redução do tamanho de grão, o qual foi calculado por Scherrer e atinge magnitude inferior a 10 nm. Os picos do DRX estão deslocados, fato justificado pela formação de uma solução sólida na qual o Si substituiu o Zr no reticulado do ZrN e pela forte interface formada entre as fases cristalina e amorfa. XPS confirma a formação de uma estrutura bifásica de ZrN e Si3N4 e mostra indícios de que há uma solução sólida de Si no ZrN. Os ensaios de oxidação foram realizados em temperaturas de 500°C até 1100°C. O filme de ZrN praticamente se oxida a 500°C, enquanto nos filmes com altos teores de silício os grãos de ZrN se mantém estáveis até 700°C. Quando oxidado, os filmes de ZrN formam predominantemente ZrO2 na fase monoclínica, mas, nos filmes com adição de Si há a inversão para a fase tetragonal. Tal fato é fruto da redução do tamanho de grão, pois a fase tetragonal possui menor energia de superfície. Tais resultados ratificam que existe mecanismo atuando como barreira a difusão, o qual impede a coalescência dos grãos e a difusão do oxigênio. Este mecanismo é resultado do processo de segregação do silício para os contornos, o qual assegura a formação da nanoestrutura composta de grãos de ZrN embebidos por camada amorfa de Si3N4 (nc-ZrN/a-Si3N4) e permite aprimorar a resistência a oxidação em pelo menos 200°C.


MEMBROS DA BANCA:
Presidente - 1819778 - EDUARDO KIRINUS TENTARDINI
Interno - 1694103 - EULER ARAUJO DOS SANTOS
Externo à Instituição - FABIANA MAGALHÃES TEIXEIRA MENDES
Externo à Instituição - ROBERTO HUBLER
Interno - 358689 - SANDRO GRIZA

Notícia cadastrada em: 02/02/2016 15:10
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