Uma banca de DEFESA de DOUTORADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: ANDRÉ ROMÃO TERTO
DATA: 14/06/2021
HORA: 14:00
LOCAL: Vídeo Conferência
TÍTULO: INFLUÊNCIA DA TEMPERATURA DE DEPOSIÇÃO NAS PROPRIEDADES MECÂNICAS E TRIBOLÓGICAS E NA RESISTÊNCIA À OXIDAÇÃO DE FILMES FINOS DE Zr1-XSiXN DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING REATIVO
PALAVRAS-CHAVES: Filmes finos; Magnetron sputtering; Deposição em alta temperatura;Zr-Si-N; Solução Sólida Supersaturada.
PÁGINAS: 107
GRANDE ÁREA: Engenharias
ÁREA: Engenharia de Materiais e Metalúrgica
RESUMO:

Filmes finos de nitreto de zircônio puro (ZrN) e com adição de diferentes teoresde silício (Zr1-xSixN) foram depositados por magnetron sputtering reativo (RMS) em diferentes temperaturas a fim de estudar a influência da temperatura de deposição na composição do filme, nas propriedades mecânicas e tribológicas e na resistência a oxidação dos revestimentos. Para formação do sistema ternário Zr-Si-N foram utilizadosos teores de 1,6 e 8,0 at.% de Si, determinados por análise de espectroscopia deretroespalhamento de Rutherford (RBS). As deposições foram realizadas sem aquecimento externo de substrato (SA), a 300 °C, 500 °C e 700 °C. Caracterizações dedifração de raios-X com ângulo de incidência rasante (GIXRD) e microscopia eletrônica de varredura convencional (MEV) e com emissão de campo (MEV-FEG), ensaios denanodureza, testes tribológicos do tipo esfera-sobre-plano com movimento linear recíproco (ball-on-flat reciprocating), teste de riscamento (scratch test) e ensaios de oxidação foram utilizados para verificação de possíveis mudanças nas estruturas e propriedades dos filmes. Os resultados encontrados foram comparados com a literatura emostraram que o aumento da temperatura de deposição promoveu ganhos significativosnas propriedades apresentadas pelos revestimentos, especialmente para aqueles com ivadição de 8,0 at.% de Si. Para este teor de Si também foi observado o processo de recristalização do material quando depositado com aquecimento de substrato, em comparação com as deposições SA que apresentou comportamento amorfos. Indicativode que ocorreu um aumento no limite de solubilidade do Si na matriz do ZrN a partir da formação de uma solução sólida supersaturada em Si. Além disso, foi possível observar uma maior resistência à oxidação para aqueles revestimentos depositados em elevadas temperaturas.

MEMBROS DA BANCA:
Presidente - 1819778 - EDUARDO KIRINUS TENTARDINI
Interno - 1692550 - MARCELO MASSAYOSHI UEKI
Externo à Instituição - ROBERTO HUBLER
Externo ao Programa - 1748688 - ROGERIO MACHADO
Interno - 2653918 - WILTON WALTER BATISTA