UFS › SIGAA - Sistema Integrado de Gestão de Atividades Acadêmicas São Cristóvão, 23 de Outubro de 2020


Notícias

Banca de DEFESA: VAGNER FONTES GONÇALVES SOARES
20/03/2020 10:49


Uma banca de DEFESA de DOUTORADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: VAGNER FONTES GONÇALVES SOARES
DATA: 03/04/2020
HORA: 09:00
LOCAL: Miniauditório do P²CEM
TÍTULO: INFLUÊNCIA DA ARQUITETURA DE MULTICAMADAS EM FILMES FINOS Cr/TiN DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING.
PALAVRAS-CHAVES: Multicamadas Cr/TiN; arquiteturas não iso-estruturadas; nanodureza;oxidação a alta temperatura; magnetron sputtering.
PÁGINAS: 110
GRANDE ÁREA: Engenharias
ÁREA: Engenharia de Materiais e Metalúrgica
RESUMO:

Filmes finos do tipo multicamadas Cr/TiN iso e não iso-estruturadas com espessura e
composição constantes foram depositados por
magnetron sputtering com o objetivo de
investigar a influência de diferentes arquiteturas nas estruturas e propriedades dos
revestimentos. Análises GD-OES e MEV-FEG mostraram que todas as multicamadas
apresentaram interfaces uniformes e microestruturas densas com tamanhos de grão
variando de acordo com a espessura da camada, revelando uma tendência de crescimento
colunar para camadas mais espessas que 50 nm. As análises GAXRD mostraram que as
multicamadas consistem em fases policristalinas de α-Cr e δ-TiN com um crescimento
preferencial no plano Cr(110). A sobreposição de TiN nas camadas metálicas de Cr levou
a um alto grau de amorfização da estrutura δ-TiN, embora camadas de TiN mais espessas
que 50 nm tenham demonstrado aumento de cristalinidade no plano TiN(200). Testes de
nanodureza registraram valores de dureza para todas as multicamadas em torno de 16,2
GPa, evidenciando que diferentes ordens de distribuição das camadas não influenciaram
significativamente essa propriedade. Os baixos valores para os fatores H/E e H³/E²
indicaram que as multicamadas tendem a sofrer deformações nanoplásticas, sendo
adequadas apenas para aplicações sem contato ou de baixa intensidade. Testes de
oxidação revelaram que o filme fino da arquitetura iso-estruturada com camadas de 50
nm apresentou uma resistência à oxidação melhor do que as arquiteturas não isoestruturadas devido a uma barreira criada pelas camadas de TiN com certo grau de
cristalinidade seguidas por camadas de Cr com espessura moderada, evidenciando que
nas multicamadas de Cr/TiN um balanço entre a cristalinidade das camadas de TiN e as
quantidades de Cr na metade superior do filme podem melhorar a resistência à oxidação.
Ensaios de corrosão destacaram a a arquitetura graduada com aumento da quantidade de
Cr em direção à superfície como mais adequada para otimizar a resistência à corrosão.


MEMBROS DA BANCA:
Presidente - 1819778 - EDUARDO KIRINUS TENTARDINI
Externo à Instituição - GIANCARLO RICHARD SALAZAR BANDA
Externo ao Programa - 2027874 - MARCELO ANDRADE MACEDO
Interno - 358689 - SANDRO GRIZA
Interno - 2243395 - ZELIA SOARES MACEDO

SIGAA | Superintendência de Tecnologia da Informação/UFS | Telefonista/UFS (79)3194-6600 | Copyright © 2009-2020 - UFRN v3.5.16 -r12712-85cc87cea5