UFS › SIGAA - Sistema Integrado de Gestão de Atividades Acadêmicas São Cristóvão, 23 de Outubro de 2020


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Banca de DEFESA: IKARO ARTHUR DANTAS SANTOS
26/09/2018 11:05


Uma banca de DEFESA de MESTRADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: IKARO ARTHUR DANTAS SANTOS
DATA: 10/10/2018
HORA: 09:00
LOCAL: Mini auditório do P²CEM
TÍTULO: INFLUÊNCIA DO TEOR DE Hf EM FILMES FINOS DE Zr e ZrN DEPOSITADOS POR MAGNETRON SPUTTERING
PALAVRAS-CHAVES: filmes finos; ZrHfN; ZrHf; magnetron sputtering reativo
PÁGINAS: 60
GRANDE ÁREA: Engenharias
ÁREA: Engenharia de Materiais e Metalúrgica
RESUMO:

Filmes finos de Zr-Hf-N e Zr-Hf foram depositados por magnetron sputtering reativo com o intuito de verificar a influência de pequenos teores de háfnio que estão presentes como contaminantes nos alvos de deposição de zircônio. Para isto foram adicionados intencionalmente diferentes teores de háfnio nos filmes através da variação da potência de deposição. As amostras foram caracterizadas por difração de raios-X (DRX), espectroscopia de raios-X por energia dispersiva (EDS), espectroscopia por retroespalhamento Rutherford (RBS) e análises de nanodureza. Os filmes finos de ZrHfN foram depositados e apresentaram concentração em at.% de Hf de 0,49; 0,56; 0,80; 1,87 e 2,70. As ligas Zr-Hf depositadas apresentaram teores de háfnio em at.% de 1,21; 1,24; 4,35; 7,94 e 11,49. A fase cristalina obtida para os filmes os nitretos tinha estrutura cúbica de face centrada (CFC) e não foi modificada pelo aumento do teor de háfnio. As ligas se apresentaram amorfas com algumas regiões cristalinas de estrutura hexagonal. Os valores de dureza variaram de 21,4 a 25,1 GPa para os nitretos e de 6,1 a 8,4 GPa para as ligas de zircônio.


MEMBROS DA BANCA:
Presidente - 1819778 - EDUARDO KIRINUS TENTARDINI
Externo ao Programa - 1348886 - FREDERICO GUILHERME DE CARVALHO CUNHA
Interno - 1692550 - MARCELO MASSAYOSHI UEKI

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