Banca de DEFESA: PAULO VITOR SILVA DE LIMA
05/05/2015 14:36
Os óxidos de Níquel têm sido objeto de estudo em áreas tecnológicas e científicas devido a suas aplicações na fabricação de diversos dispositivos eletrônicos nas últimas décadas e suas propriedades semicondutoras. O presente trabalho propõe a obtenção de filmes finos óxido de níquel, a partir da técnica spray-pirólise. Esta técnica consiste em criar um spray através de um fluxo de ar que atravessa um atomizador. O spray, formado pela solução de partida, arrasta os átomos que são depositados sobre uma chapa aquecida. Os filmes foram obtidos a partir de uma solução de NiCl2 a 200 mM, contendo um agente quelante, a uma temperatura de 450 ºC. A concentração de agente quelante na solução de partida foi variada de 1-10 mM e seus efeitos nas propriedades estruturais e morfológicas foram estudadas através das técnicas de Difração de raios-X e Microscopia Eletrônica de Varredura. Percebeu-se que a concentração da sacarose, variando de seu valor mínimo ao máximo, nos mostra a evolução de um filme amorfo com grãos coalescidos a um filme policristalino com grãos bem definidos da ordem de nanômetros.
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